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光學(xué)超構(gòu)表面的歷史、未來及挑戰(zhàn)
212024-05
光學(xué)超構(gòu)表面的歷史、未來及挑戰(zhàn)

據(jù)麥姆斯咨詢介紹,近期,ACS Photonics期刊的主編Romain Quidant教授(蘇黎世聯(lián)邦理工學(xué)院)與哈佛大學(xué)的Federico Capasso教授進(jìn)行了對話,雙方討論了超構(gòu)表面(Metasurface)的歷史、未來的發(fā)展軌跡及其所面臨的挑戰(zhàn)。以下為麥姆斯咨詢編譯的訪談內(nèi)容。 Romain Quid……

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雙光子光刻:突破光電芯片的封裝瓶頸
312024-01
雙光子光刻:突破光電芯片的封裝瓶頸

光電芯片作為半導(dǎo)體行業(yè)的后起之秀,在光互連、光計算、光傳感、激光雷達(dá)等領(lǐng)域有著重要的應(yīng)用前景,成為各界的關(guān)注焦點,為后摩爾定律時代的發(fā)展開辟了新賽道。受益于成熟的半導(dǎo)體CMOS工藝,光電芯片的制備能力已經(jīng)得到快速發(fā)展。然而光電芯片的封裝工藝仍然存在關(guān)鍵技術(shù)瓶頸。光電芯片的封裝過程,除了我們所熟知的電信號的互連,還需考慮……

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新型光刻膠,登上Science!可用于3D打印前所未有的復(fù)雜結(jié)構(gòu)!
312024-01
新型光刻膠,登上Science!可用于3D打印前所未有的復(fù)雜結(jié)構(gòu)!

雙光子(或多光子)光刻技術(shù)可以實現(xiàn)具有幾乎任意幾何形狀的聚合物納米結(jié)構(gòu)。雙光子抗蝕劑通常使用吸收光子的光引發(fā)劑,以形成引發(fā)聚合的反應(yīng)活性物種(如自由基)。高性能的雙光子引發(fā)劑可以大大增強(qiáng)印刷速度和分辨率。目前,幾乎所有的雙光子引發(fā)劑都是有機(jī)分子,不能提高最終印刷產(chǎn)品的性能和結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性。此外,每種有機(jī)光引發(fā)劑通常只對單……

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3D打印為什么能代表未來?
262024-01
3D打印為什么能代表未來?

3D打印和增材制造的潛力如此巨大,以至于它可能會顛覆我們所知的制造業(yè)。最明顯的變化將是本地化生產(chǎn),這可能會接替或取代傳統(tǒng)的分布式制造。另一個重大變化是個性化定制的能力。 除了顛覆傳統(tǒng)制造之外,3D打印還將通過使用非石化材料來提高可持續(xù)性。新材料將更便宜且更容易采購,這將降低制造成本。這些較低的成本還將影響材料的儲……

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半導(dǎo)體封裝增長最快領(lǐng)域:車規(guī)級封裝與2.5D、3D封裝
222024-01
半導(dǎo)體封裝增長最快領(lǐng)域:車規(guī)級封裝與2.5D、3D封裝

半導(dǎo)體封裝是芯片生產(chǎn)的最后一公里,也是后摩爾時代的創(chuàng)新熱點。近年來,隨著汽車電子、人工智能等領(lǐng)域的發(fā)展,對半導(dǎo)體封裝的要求越來越高,尤其是車規(guī)級封裝和2.5D、3D封裝兩個領(lǐng)域成為增長最快的先進(jìn)封裝技術(shù)。

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正視掩膜版國產(chǎn)化水平差距,未來中高端掩膜版國產(chǎn)率將提升
222024-01
正視掩膜版國產(chǎn)化水平差距,未來中高端掩膜版國產(chǎn)率將提升

目前國產(chǎn)化的推進(jìn),半導(dǎo)體公司對于掩膜版的需求也不斷增加;同時半導(dǎo)體材料處于整個產(chǎn)業(yè)鏈的上游環(huán)節(jié),這也將對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展起著重要的作用.... 如今,光刻技術(shù)是制造芯片所必需的一項關(guān)鍵技術(shù),而光刻技術(shù)中的光掩膜版則是非常重要的一環(huán)。 掩膜版需求快速增長,國產(chǎn)水平差距仍在

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半導(dǎo)體關(guān)鍵材料陷供應(yīng)緊缺,光掩膜版市場需求不斷增加
222024-01
半導(dǎo)體關(guān)鍵材料陷供應(yīng)緊缺,光掩膜版市場需求不斷增加

盡管半導(dǎo)體行業(yè)整體景氣欠佳,但是卻有一類關(guān)鍵材料陷入供應(yīng)緊缺。 據(jù)韓國ET News報道,半導(dǎo)體光掩膜供應(yīng)緊缺,多家光掩膜主要供應(yīng)商在手訂單高企,包括Photronics、Toppan、DNP等。 以往正常情況下,高規(guī)格光掩膜產(chǎn)品出貨時間為7天,如今已拉長至30-50天,是原有時長的4-7倍;低規(guī)格產(chǎn)品交付……

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